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品牌：Oxford牛津
使命是为研究新型先进薄膜材料和器件的科学家和工程师提供服务。我们通过以下手段来实现此目标
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种用途广泛的、用于薄膜沉积和合成纳米结构和纳米粒子的方法。
PLD是一种复杂材料沉积的创新方法
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高效率裂解氮气, 氧气 和氢气,适用于氮化物,氧化物的生成,氮的搀杂（GaInNAs, GaN, ZnO, ultra-thin Al2O3 films and high-k dielectric oxides）和氢原子清洗
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裂解多种气体如氢气；氧气；氢化物；氯气；氨气和碳氢化合物，用于氧化物，氮化物等薄膜的生长，基片表面零损伤氢清洗及原子氢、氯的反应刻蚀
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应用：单元，多元及多元组合（多至四种材料）共蒸发多种材料获得超纯薄膜沉积
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应用：领域包括样片的离子抛光、减薄、清洗等
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专利在线阀控制和阻隔热散*蒸发速流量宽动态范围快速可调（100：1）；
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用于离子辅助沉积；离子束溅射沉积；离子束剥离与刻蚀 和样片表面修饰
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应用：射频(300W)裂解蒸发物质并可多种气体(Ar;Ne;N2; H2 etc.)混合激发形成等离子体以实现多元素化合物薄膜生长的生长或掺杂
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应用于离子谱仪，粒子的检测和校准，衬底清洗，反应离子刻蚀和材料表面修饰
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CMI 243是一款专门为测量磁性金属基材上的锌、镍、铬、镉等镀层厚度而设计的便携式膜厚仪。独特的涡电流测试方法使测量更精确。高端配置的测量探头对细小的零件也可以精确测量。它具有X射线荧光的测量精度，同时也避免了库仑法对被测工件带来的破坏。CMI 243在设计上更加合理、可靠、实用。
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UltraBright是高功耗微焦源产品，专为那些辐射流密度应用而设计。
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随着微焦X射线源元件不断地进步，Nova600的出现是高功耗小微焦X射线源的重大的突破。
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80kV 系列是一体化的X光管和集成电源，它集合了1500系列焦点为50微米X光管的特性。
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75W型提供可调节高压电源，输出电压为50千伏，其灯丝电源提供可调整电流--5.5伏下0.3到3.5安培之间。
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在75 瓦特功率下输出电压 4Kv 到 50kV
电压和电流控制
手动：10 匝递变电阻电位计
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Spellman系列的X光管电源能很好地控制高压电源的输出，最高电压为130kV。
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在75瓦特功率下输出电压 4Kv 到 50kV
电压和发射电流从零到额定输出
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品牌：Oxford牛津
在60瓦特功率下输出电压 4Kv 到 60kV
电压和发射电流从零到额定输出
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在100瓦特功率下输出电压 4Kv 到 50kV
电压和发射电流从零到额定输出
