主要特点
◆ 可测定波长范围从280nm到2300nm的透射和反射光谱
◆ 在同一区域可同时测定T和R值
◆ 可对折射率(n)，吸收系数(k) 和厚度(d)进行准确测定
◆ 样品可在X-Y扫描台上进行扫描
◆ 入射光角度可以是固定角度、多角度和从0°到90°的连续变化的角度
◆ 可用s-、p-或非偏振光作为入射光对T和R进行测定
◆ 可对透明基片进行测定且不需要对样品进行前处理
◆ 内建的材料数据库
◆ 密封的样品室
◆ 可选择散射模式
◆ 具有在线或离线分析功能
对T和R同时测定
KD-8000系统在同一个光斑处，同时对透过光谱和发射光谱进行测定，保证了两套数据具有直接的相关性。通过测定这些光谱，全自动的控制和分析软件系统可以从中得到n、k和d值。而且所有这些都源自同一次测定。不同散射模式的选择使得对宽广范围材料的分析成为可能，而且用户可以选择缺省模式或者高级分析模式。
功能强大的Pro-OptixTM控制和分析软件系统包括一个可编辑的数据库，它允许对材料进行预先定义，以提高分析速度。该软件的其他特点包括颜色的匹配和太阳光的计算以及金属薄膜的算法。样品可以是透明的、不透明的或者半吸收的而无需对它们特殊处理。
NKD-8000是唯一一款能全部提供上述功能的分光型光学薄膜分析系统，它为薄膜表征设立了一个标准。
可变的入射光角度
①反射光检测 ②光束管 ③Y轴坐标 ④透射光检测器 ⑤Z轴坐标 ⑥X轴坐标 ⑦样品台 ⑧马达驱动的可变角度选择装置
NKD-8000系统提供可变的角度选择装置，它提供完全马达驱动的，可由PC机控制入射光的角度，入射角度从从0°到90°可自由选择。 通过作为选件的X-Y扫描台可以对大尺寸样品进行扫描，样品在X、Y两个方向上的最大行程是100mm，同时保持入射光斑始终位于行程的中间。
通过使用分析软件中的集成工具就可实现对T和R的s-偏振光谱和p-偏振光谱进行独立分析或二者一起分析。
在测定时有许多样品架备选，它们可以夹持不同类型尺寸的样品。全PC控制使这种方法对整个样品的数据收集和分析变得简单、准确和快捷。
多个角度
如果在应用中只需一些不连续的入射光角度，那么多角度选件可以提供一个满意的解决方案。从0°到90°，用户可自定义三个入射光角度。
附件
热台：可控制样品温度至150度，测定变温下的T和R，对测定光学涂层和基体的光谱位移十分有用。
显微镜/相机：对样品进行显微分析。
微光斑附件：将入射光斑聚焦至200微米，特别适合表征微小样品和局部区域。
光谱范围
NKD-8000 350nm—1000nm ( 标准模式 )
NKD-8000v 280nm—1000nm ( 紫外增强型)
NKD-8000r 800nm—1700nm ( 红 外 型 )
NKD-8000w 350nm—1700nm (宽光谱 型 )
NKD-8000e 350nm—2200nm (超宽光谱 型 )
注：宽光谱型提供两个检测器，可以覆盖350nm到1000nm和800nm到1700nm或2200nm (仅适用nkd-8000e)，但二者不能同时用。
获得数据时间
2—10分钟，这取决于光谱范围和不同选件
数据分析时间
5秒—5分钟，取决于数据的复杂程度
光谱分辨率
1nm或2nm （可选）
光源
NKD-8000v 150W 氙弧灯
其他 高稳态100W石英钨卤灯
样品尺寸
10×10mm到200×250mm标准系统,100mm 直径样品的扫描台
层数
至多5层，两个未知参数
薄膜厚度范围
1nm到25um，取决于角度、偏振和波长
1nm 需要增加椭偏模块
基片
透明、半透明或半吸收或半导体
材料
电介质、高聚物、半导体和金属
精确度
对于半吸收薄膜 典型 最大
薄膜厚度 ＜1% ＜3%
折射率 ＜0.1% ＜1%
消光系数 ＜1% ＜3%
对于金属薄膜
薄膜厚度 ＜1% ＜3%
折射率 ＜1% ＜3%
消光系数 ＜1% ＜3%
重现性
透射率 ＜0.01% ＜0.1%
反射率 ＜0.01% ＜1%
折射系数 ＜0.01% ＜0.1%
入射光角度
30°、50°或70°（标准单元）或由客户指定的从
20°到70°连续可变（可变角版本）或3个位置角度
样品上的光斑尺寸
5mm(标准系统)，250um（选件）
电源
220V，50Hz，2A 或110V，60Hz，3A
外观尺寸
890×540×720mm
重量
105Kg
选件
多角度，可变角度，X-Y样品扫描台，多种标准尺寸品架。样品观测显微镜。手动或全软件控制的偏振选件（s-、p-或非偏振）。样品加热台。台式机或工业PC。