ICP-MS是获得认可的痕量元素分析和定量的高效技术。 其应用范围从半导体工业到地质和环保分析、从生物研究到材料科学。 ICP-MS最严重的限制是元素信号的多原子干扰，这种干扰主要来自氩或样品基质。 高质量分辨率是识别和消除干扰的最佳标准。 即使没有样品制备步骤，消除干涉也能准确可靠地进行痕量级多元素定量分析。
多元素分析
- 多元素检测器具备处理瞬态信号（包括CE、HPLC、GC、FFF和激光烧蚀）的速度
- 从超痕量到基质组分、从mg/L到亚pg/L浓度范围的覆盖周期表的无干扰测量
- 与无机和有机固体以及几乎所有溶液基质兼容
全自动的常规分析
- 自动调节所有参数，包括透镜、气流和炬位，以获得可重复而可靠的系统设置
- 全面、可定制的质量控制系统
- 可靠耐用，可作为全年无休的生产控制工具，最大化样品通量
具有灵活性和易用性的先进研究工具
- 拥有权限进入方法开发的所有仪器参数
- 具有高质量分辨率，可识别受干扰的同位素光谱： 生成明确的元素光谱
- 无论是否存在干扰情况，也能获得高精度的同位素比检测
- 热和冷等离子体状态
- 高稳定性的同位素比
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