此产品广泛应用于：纳米材料、纳米科技、半导体、薄膜材料、薄膜沉积以及航空航天领域。
PICOSUN公司是一个国际化的设备制造商，在全球有销售和服务机构.我们开发和制造原子层沉积反应器用于微米和纳米技术应用。PICOSUN为客户提供用户友好，可靠及多产的ALD工艺工具，提供独一无二的从研发到生产的工业放大。PICOSUN基地在芬兰的espoo，美国总部在Detroit。SUNALE型ALD工艺工具被用于欧州、美国及亚洲顶级的科学机构、公司。
PICOSUN拥有30多年在芬兰ALD反应器制造而得到的专业技术。Tuomo Suntola博士，于1974年发明了ALD技术，是PICOSUN董事会的成员。我们的首席技术官SVEN LINDFORS从1975年开始连续的设计ALD系统。综合起来讲，PICOSUN拥有了200多年的ALD经验并贡献了100多项ALD专利。我们悠久的历史和广泛的背景使PICOSUN成为ALD技术最佳的合作伙伴
SUNALETM型P系列技术特征
基本特征：
晶片尺寸：4”，100 mm
晶片数：25-50片
工艺温度：至500 ℃
反应腔体积：大型
反应腔材料：316不锈钢，Ti，Ni，Al
前驱体源：2-4液体 / 气
基片装载设备：气动升降机
大小：
尺寸：27.6*41.3*36.4”, 70*105*92.5 cm (W*H*D)
重量：200 kg
工况：
电源：100-240 V，50/60 Hz，1-或3-相，3.7 KW
真空泵：30-80 m3/h
载气：99.999 % N2 / Ar, min 2slm
压缩空气：4-5.5 bar过压
冷却水：对于反应器无要求
排气：为真空泵及源橱柜配备