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PICOSUN ALD原子层沉积系统R系列

产品编号:
市场价:¥0.00
会员价:¥0.00
品牌:中文
生产厂家:PICOSUN
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此产品广泛应用于:半导体、纳米材料、钠米科技、薄膜材料、薄膜沉积以及航空航天领域。
PICOSUN公司是一个国际化的设备制造商,在全球有销售和服务机构.我们开发和制造原子层沉积反应器用于微米和纳米技术应用。PICOSUN为客户提供用户友好,可靠及多产的ALD工艺工具,提供独一无二的从研发到生产的工业放大。PICOSUN基地在芬兰的espoo,美国总部在Detroit。SUNALE型ALD工艺工具被用于欧州、美国及亚洲顶级的科学机构、公司。

 
PICOSUN拥有30多年在芬兰ALD反应器制造而得到的专业技术。Tuomo Suntola博士,于1974年发明了ALD技术,是PICOSUN董事会的成员。我们的首席技术官SVEN LINDFORS从1975年开始连续的设计ALD系统。综合起来讲,PICOSUN拥有了200多年的ALD经验并贡献了100多项ALD专利。我们悠久的历史和广泛的背景使PICOSUN成为ALD技术最佳的合作伙伴。
技术指标
SUNALE™ R系列技术特点
 
基本特点:
晶片尺寸                2-6”, 50-150 mm (8’’ = 200 mm on request)
工艺温度                Up to 500°C
 
反应室体积                     小型、中型、大型
反应室材料                     316 SS, Ti, Ni, Al (quartz)
前驱体                            2-6 气体 / 气体 / 固体
 
基片装载                气体升降
 
 
尺寸:
尺寸                      27.6 x 41.3 x 36.4’’, 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D)
重量                               200 kg
 
 
 
工况:
电源                      100-240 V, 50/60 Hz, 1- or 3-phase, 3.7 kW Vac
真空泵                            30-80 m3/h
载气                      99.999 % N2  / Ar, min. 2 slm
 
压缩空气                4-5.5 bar 过压
冷却水                            反应器不需要
 
排气                      为真空泵及源橱柜配备
 
样品装载选项:

Picoloader™手动样品装载系统,带一个预真空室和闸阀

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