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Oxford牛津铌三锡低损耗线材
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¥0.00元 会员价:¥0.00元 品牌:Oxford牛津
ITER类型低损耗Nb3Sn超导线材是OST用内锡法给ITER项目生产的线材。线材由铌丝和锡为中心,用钽包装阻止扩散,里面是高RRR铜作为夹层。在制造完成后,在表面镀铬。典型的一镂线材直径为0.8毫米,并有2微米厚度的铬涂层。 -
Oxford牛津铌三锡RRP线材
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此类高场下最好性能的铌三锡线材是我公司通过十年不懈的努力而取得的。在20特斯拉磁场下,此线材比通常的铌三锡线材的临界电流高出3倍。此线材使得二个世界记录 - 950MHz核磁共振磁体,和16T双极磁体的产生成为可能。 -
Oxford牛津铌钛细径线材
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OST对于细丝径铌钛线生产具有悠久的历史,其中包括SSC和RHIC项目。我公司给布鲁克海文国家实验室RHIC的计划提供了所有的60吨的线材,使其能够按计划于1994年完成工作。 -
Oxford牛津铌钛铜基线材
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铌钛/铜矩阵铌钛复合导线提供了三十年的超导磁体产业的基础。此线是成本低,相当牢固,产品包含圆形,矩形,单核心,复丝,铜超比从7:1到1:1配置和直径从数毫米到0.1毫米广泛范围。 铌钛/铜矩阵线是用于的磁场强度低于10 - 11特斯拉的磁体。数据表给出了丝径为54,铜超比为1.35的数据,如上所述,我们可以提供多种此类线材,如有任何要求,欢迎来电垂询。 -
Oxford牛津FOUNDRY-MASTERPRO全谱直读光谱仪
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新款FOUNDRY-MASTER PRO - 金属分析领域的一流实验室级发射光谱仪 凭借其高性能及可靠设计,以及创新性光学系统和扩展波长范围,FOUNDRY-MASTER PRO 可确保对重要元素的精确鉴定和痕量分析,如:钢铁中的氮及铝中的磷。 -
Oxford牛津FOUNDRY-MASTERCOMPACT全谱直读光谱仪
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FOUNDRY-MASTER COMPACT (FMC)台式火花直读光谱仪采用现代最先进的CCD数码技术,实现了分析光谱的全谱直读。 -
Oxford牛津FOUNDRY-MASTERUV全谱直读光谱仪
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FOUNDRY-MASTER UV台式真空火花发射光谱仪采用现代最先进的CCD数码技术,实现了分析光谱的全谱直读。 -
Oxford牛津ARC-MET8000便携式直读光谱仪
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便携式直读光谱分析仪用于鉴定金属中所有的重要元素——尤其是那些需要高精确度的分析和痕量元素的分析,如C、Al、S、P、Mg、Si, 并可以分检低合金钢和铝合金。例如,可以分辨316 H (>0.04% C) 和 316 L (<0.03% C)。 -
Oxford牛津PMI-MASTERPRO移动式直读光谱仪
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强大的电池功能以及模块化设计适合各种复杂环境的检测需要。 -外观紧凑,功能强大 -
Oxford牛津TEST-MASTERPRO移动式直读光谱仪
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移动方便,适合现场快速分析 -分析速度快,仅需 2秒种 -
Oxford牛津X-Act分析性电制冷能谱
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Oxford牛津X-Max大面积电制冷能谱探测系统
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牛津仪器最近发布的大面积电制冷能谱系统X-Max比常规的EDS探头高达10倍的立体角,仍然保持优异的探测性能,因此用户可以在高图像分辨率的条件下同时进行快速的成分分析和面扫描。 -
Oxford牛津X-MaxTEM电制冷能谱系统
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牛津仪器已经成功的研发出了TEM用大面积电制冷能谱系统X-Max。探头的有效晶体面积为80mm2,具有比大面积Si(Li)探头更高的计数率而无需液氮。配合高性能的INCAEnergy TEM 软件,X-Max 进一步提高 TEM的分析性能。 -
Oxford牛津Mercury iPS超导磁体电流源
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水星系列超导磁体电流源:Mercury iPS 即将发布的水星系列超导磁体电流源:更精确,更智能,易于升级和扩展 -
Oxford牛津SpectromagPT无液氦超导磁光系统
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无液氦SpectromagPT是低温磁光系统Spectromag的无液氦版本,它无需液氦等制冷剂,利用闭循环制冷机制冷,操作简单,可连续运行。 -
Oxford牛津HelioxAC-V无液氦氦三恒温器
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HelioxAC-V是桌面化的无液氦系统, 可以把较大的样品冷却到300mk,保持时间在50小时以上。 -
Oxford牛津HelioxVT紧凑型氦三恒温器
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HelioxVT可以使用在任意的牛津仪器生产的变温插件中(VTI),通路直径为30mm或者50mm。由于他采用了VTI的冷气体环境,所以插件中无需1K壶 -
Oxford牛津HelioxVL样品在真空中的3He恒温器
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HelioxVL系统是样品在真空中的氦3恒温器,性能相当优异,可以在低于245mK保持超过90小时。 该系统通过先进的吸附泵技术以及特殊设计的1K池和氦三壶,就可以达到基温。 -
Oxford牛津Triton3He无液氦氦3低温恒温器
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大的温度调节范围:从300mK到30K,使得该设备可以适用于广泛的应用 -
Oxford牛津PlasmaProTM NGP80–下一代等离子体处理系统